ASML出货全球首台High-NA EUV光刻机

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  新型的微影机每台造价超过3亿美元,将协助英特尔制造更小和更快的芯片。

  阿斯麦在X平台发布了一张照片,显示该机器的一部分正从荷兰的Veldhoven市总部出发,机器放在一个保护壳里,周围系着一条红带。

  阿斯麦在声明中说:“我们很高兴、并自豪地把我们第一台High NA EUV系统运送给英特尔”。

  阿斯麦主导着全球微影系统市场,该机器使用激光光来创造芯片的电路。High NA EUV机台组装起来会比一辆卡车更大,目前正装在250个独立的箱子运输,其中包括13个大型货柜。预计该系统将在2026年或2027年开始正式投入于商业芯片制造。

  英特尔是在2022年首次下订High NA EUV。已经下订该款机台的大厂包括台积电、三星电子、SK海力士、美光。

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