尼康宣布全新ArF浸没式光刻机

　　尼康于2023年12月10日宣布，将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”。这款光刻机采用了增强型iAS设计，可用于高精度测量、圆翘曲和畸变校正，重叠精度(MMO)更高，号称不超过2.1纳米。

　　NSR-S636E还采用了新一代光源和光学系统，可提高生产效率。将为客户提供更高精度、更高效率的光刻解决方案，满足未来摩尔定律的需求。

　　NSR-S636E的售价为约100亿日元，比上一代产品降低了约30%。