中国半导体刻蚀设备龙头中微公司发布2025年度业绩预告，预计全年净利润为20.8亿至21.8亿元人民币，同比增长约29%至35%。公司表示，增长主要得益于先进逻辑与存储器制造中关键刻蚀工艺的高端设备出货量显著提升，相关工艺已实现量产。
作为半导体前道核心设备之一，中微的等离子体刻蚀设备在国内外市场持续获得客户认可。在电容耦合等离子体刻蚀领域，其单反应台介质刻蚀产品保持高速增长;在感应耦合等离子体刻蚀方面，新一代设备加工精度与重复性已达单原子水平。截至2025年底，公司刻蚀设备反应台全球累计出货量已超过6800台。
除刻蚀设备外，中微近年新开发的十多款薄膜设备已陆续进入市场。其中，低压力学气相沉积设备累计出货突破300个反应台，外延生长设备已进入客户端量产验证阶段，部分先进工艺正在推进量产验证。
产能方面，公司位于南昌约14万平方米及上海临港约18万平方米的研发生产基地均已投入使用，为销售增长提供支撑。随着国内半导体设备自主化进程推进，中微在关键刻蚀与薄膜沉积领域的技术突破，正逐步转化为持续增长的业绩表现。
